Nanocosmoprojekt : opis
NANOKOSMOPROJEKT jest to cykl mikroskopowych zdjęć nanokosmosów powstających w trakcie fotolitograficznego procesu wytwarzania mikrosystemów i nanostruktur krzemowych.
Zasada działania fotolitografii jest podobna do litografii w poligrafii.
Proces fotolitografii jest zazwyczaj wieloetapowy i składa się kolejno z :
1. przygotowania powierzchni ( odtłuszczanie i wygrzewanie )
2. nałożenia emulsji światłoczułej ( polega na pokryciu całej powierzchni nierównomierną warstwą emulsji a następnie poprzez odwirowanie następuje wyrównanie grubości emulsji na całej powierzchni płytki)
3. wygrzewania emulsji ( płytkę z nałożona emulsja wygrzewa się przez pewien czas w suszarce lub na płycie grzejnej)
4. naświetlania ( do płytki z emulsją przykładana jest fotomaska przez która naświetla się promieniowaniem ultrafioletowym emulsję światłoczułą. Jako źródła światła używa się zazwyczaj lampy UV ( linia I 365 nm )
5. wywołania ( w tym etapie następuje usuniecie części emulsji, w przypadku emulsji pozytywowej następuje usuniecie naświetlonej emulsji w przypadku emulsji negatywowej -nienaświetlonej części, producenci emulsji dostarczają zazwyczaj wywołacze, których pełny skład jest tajemnicą firmy często jednak zawierają one NaOH)
6. trawienie podłoża lub tworzenie dodatkowych warstw np. metalicznych czy tlenkowych ( w miejscach gdzie nie ma emulsji podłoże zostaje wytrawione, lub powstaje dodatkowa warstwa)
7. usuniecie pozostałej emulsji z powierzchni płytki.
Zbiór nanokosmosów jest produktem ubocznym procesu fotolitografii, niezauważonym przez pracowników instytutu, w którym pracuję i zwykle trafiającym do kosza odpadów krzemowych. Postanowiłam uwiecznić niedostrzegalne piękno inżynierskiej pracy oraz uwrażliwić odbiorców na nowe odmiany wyrazu artystycznego.
Mój artystyczny profil :
http://www.saatchionline.com/karinaska
English version :
NANOCOSMOPROJECT is a series of microscopic images of nanocosmos generated during photolithographic manufacturing process of silicon micro-and nanostructures.
The principle of photolithography operation is similar to lithography in printing.
Photolithography process is usually a multi-stage and consists of a sequence of:
1. surface preparation (degreasing and annealing)
2. imposition of photosensitive emulsions (consists in covering the entire surface of the uneven layer of emulsion and then by centrifugation followed by alignment of the entire thickness of the emulsion on the surface of the plate)
3. heating the emulsion (emulsion plate with imposed soaked for some time in the oven or on a hot plate)
4. exposure (to the plate with the emulsion is applied by a photomask is illuminated with ultraviolet light-sensitive emulsion. As a light source generally used UV lamp (365 nm line I)
5. developing (in this stage the removal of the emulsion, in the case of removing the emulsion is exposed positive emulsion for emulsion of the negative-unexposed parts, manufacturers usually provide developers emulsion whose composition is a complete mystery, however, companies often contain NaOH)
6. etching the substrate or to create additional layers such as metal or oxide (in places where there is no emulsion substrate is etched, or formed an additional layer)
7. removal of the remaining emulsion from the surface of the plate.
"Nanocosmos" collection is a byproduct of the process of photolithography, unnoticed by the staff of the Institute where I am working and generally appealing to the trash waste of silicon. I decided to immortalize the beauty of invisible engineering work and to sensitize the public on new varieties of artistic expression.
